[衛(wèi)生法規(guī)]光化學煙霧

原題:
[衛(wèi)生法規(guī)]光化學煙霧

---

牙周炎病損確立期的主要病理變化是
A.結合上皮和溝內上皮下有炎細胞浸潤
B.溝內上皮向根方增殖
C.結合上皮向根方增殖
D.牙周袋形成牙槽骨未吸收
E.牙周袋形成牙槽骨吸收
答案：
D