口腔細胞DNA損傷可以由多種因素引起，主要包括以下幾個方面：
1. 物理因素 如紫外線、X射線等電離輻射能直接作用于DNA分子，造成其結(jié)構改變或斷裂。此外，高溫也可以導致DNA的熱變性。
2. 化學物質(zhì) 某些化學物質(zhì)如苯并芘、亞硝胺類化合物及重金屬離子等可通過與DNA發(fā)生加成反應或者氧化反應等方式對DNA產(chǎn)生損害。另外，一些藥物（例如抗癌藥）也可能引起DNA損傷作為其副作用之一。
3. 生物因素 病毒感染是導致細胞內(nèi)DNA受損的重要原因之一，某些病毒能夠?qū)⒆陨砘蚪M整合到宿主細胞的染色體中，干擾正常的復制和修復過程；細菌產(chǎn)生的毒素也有可能對口腔黏膜造成傷害進而影響到細胞核內(nèi)的遺傳物質(zhì)。
4. 氧化應激 當機體受到外界刺激時（如吸煙、飲酒），會產(chǎn)生大量自由基，過量的活性氧物種會攻擊DNA，引發(fā)堿基修飾、單鏈斷裂等損傷現(xiàn)象。長期處于高氧化壓力狀態(tài)下容易累積不可逆的DNA損傷。
5. 遺傳因素 個體間存在遺傳差異，在修復受損DNA能力上有所不同，部分人群可能因攜帶特定基因型而更容易發(fā)生口腔細胞DNA損傷。
6. 不良生活習慣 如吸煙、飲酒、不健康飲食等均可增加口腔黏膜暴露于潛在有害物質(zhì)的機會，從而提高DNA受損害的風險。